PGMEA
초미세 패턴 구현을 위한 핵심 소재,
친환경 초고순도 PGMEA의 국산화
반도체 회로는 나노미터 단위의 정밀한 패턴 형성을 위해 극자외선(EUV) 노광 공정을 중심으로 고도화되고 있으며,
이에 따라 포토레지스트(PR)와 Thinner 등 공정용 소재의 순도와 안정성에 대한 요구도 높아지고 있습니다.
켐트로닉스는 친환경 초고순도(99.999%) PGMEA를 개발하며 고부가가치 반도체 소재 사업을 확대하고 있습니다.
켐트로닉스는 EUV 노광 공정에 사용되는 포토레지스트(PR)의
핵심 용제인 PGMEA(프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세트산)를
99.999%(5N) 수준의 초고순도로 자체 합성하여 양산 중이며,
금속성 불순물과 독성 이성질체 농도를 각각 ppt(1조분의 1) 및
1.5ppt 이하 수준으로 낮추는 등 글로벌 수준의 품질을 확보하고
있습니다.
PGMEA 주요 용도
- 반도체 8대 공정 中
주요 ITEM
당사는 PMGEA 뿐만 아니라 다양한 반도체 소재를 개발/양산하고 있습니다.
