RESEARCH
축적된 기술력을 바탕으로 공정 전반을 아우르는 반도체 소재 개발
당사 전자재료연구소는 반도체소재 사업의 핵심 R&D 조직으로,
2006년 설립 이후 전자재료 grade의 고순도 소재에 대한
끊임없는 개발을 통해 합성 및 정밀 Formulation 기술을
보유하고 있습니다.
수준 높은 전문 연구 인력을 바탕으로, 반도체 공정에 적합한
첨단 소재 개발에 집중하고 있으며, 차별화된 기술력과 독자적인
개발 역량을 통해 전자재료 산업 성장과 함께 다양한 응용
분야로의 확장을 도모하고 있습니다.
켐트로닉스 전자재료연구소에서는 Solvent, Polymer, Electro-chemical Materials 등
다양한 소재를 개발하고 있으며, 그 중 Solvent를 중심으로 중장기적인 성장을 도모하고 있습니다.
주요 연구개발 과제
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01. 반도체 Hardmask 재료 개발
미세 공정에 최적화된 식각 저항성 및 플라즈마 내성 향상을 위한 Hardmask용 고기능성 Polymer 개발
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02. Photolithography 공정용 단량체 및 첨가제 합성 연구
EUV 및 ArF 공정에 사용되는 PR(Photoresist) 소재의 성능을 향상시키기 위한 고순도 단량체 및 기능성 첨가제 설계 및 합성
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03. 반도체 공정용 세정액 개발
웨이퍼 세정 및 PR/Residue 제거 효율을 높이기 위한 고순도, 고안정성 세정 케미칼 개발
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04. Polymer 개발
미세패터닝 공정에서 우수한 내식성 및 열안정성을 제공하는 고분자 기반 소재 개발
